北方华创：国产半导体设备平台的崛起与价值重估
北方华创主要产品包括半导体装备、真空装备、新能源锂电装备及精密电子元器件四大板块。其中，半导体装备是公司的核心业务，涵盖刻蚀、薄膜沉积、清洗、热处理、离子注入等多个关键工艺环节；真空装备主要应用于光伏、光学及工业领域；新能源锂电装备服务于新能源汽车产业链；精密
光刻
半导体设备细分领域—光刻机
半导体光刻机是芯片制造过程中最核心、最精密的设备，其工作原理基于光学投影成像技术，通过一系列复杂的光学系统将掩模版上的电路图案精确地转移到涂有光刻胶的晶圆表面。光刻机的基本工作流程主要包括五个关键步骤：涂胶、对准、曝光、显影和刻蚀 。
ASML也没有料到！大陆光刻机再次突破，外媒：简直太快了
我们都知道光刻机的重要性，但由于其制造的复杂性，目前全球光刻机市场基本被荷兰ASML垄断。不过，全球多地在研发其他光刻技术路线，希望能打破ASML垄断。
最新动向！鲍哲南院士、崔屹院士等，最新5篇Nature集锦，无掩膜光刻立大功！
近年来，传统半导体的发展愈发受制于固有物理极限，漏极诱导势垒降低、界面散射导致的迁移率退化、半导体带宽限制的电流开关比等问题逐渐凸显。在此背景下，原子层厚度的二维（2D）半导体凭借特殊的电子特性，成为突破后硅时代技术瓶颈的核心方向。
ASML申请基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备专利，辨别衍射阶对的强度
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于多模光纤成像的量测系统和光刻设备”的专利，公开号CN120476347A，申请日期为2023年11月。
AI芯天下丨热点丨国内首台10nmn纳米压印光刻机系统交付，光刻领域迎国产化突破
传统光刻通过光学投影将电路图案转移到涂有光刻胶的晶圆上，而纳米压印光刻（NIL）基于机械转移原理，像盖章一样使用模板通过机械力直接将图案压印到涂有压印胶的晶圆表面，无需光学曝光过程。
国产设备终突破，国际巨头慌了神，未来芯片谁领跑
2025年8月5日，杭州一家叫璞璘科技的公司把一台新机器交给了国内客户。这台PL-SR型纳米压印光刻机能做出比头发丝还细十万倍的芯片线路，线宽不到10纳米。他们说这是咱们国家自己造的第一台能用在半导体生产的同类机器，打破了日本佳能过去一直垄断的市场。
10nm以下！国产首台自研半导体级纳米压印光刻系统交付
纳米压印光刻（NIL）是与极紫外（EUV）光刻系统完全不同的技术路径，传统光刻是通过光学投影将电路图案转移到涂有光刻胶的晶圆上，而纳米压印光刻（NIL）是一种基于机械转移原理的微纳加工技术，像盖章一样，使用模板通过机械力将图案直接压印到涂有压印胶的晶圆表面，无
璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统
消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。
时隔20年，佳能新建半导体光刻设备工厂
日本光学巨头佳能因市场下滑，自2004年以来一直未新建半导体光刻设备生产工厂。该公司于2025年7月30日宣布，将在其宇都宫光学产品工厂建成一座新的半导体光刻设备工厂。该工厂预计将于9月投入运营。
璞璘科技交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统，纳米压印能力对标佳能！
消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。
打破佳能垄断！中国首台纳米压印光刻系统交付！
2025年8月1日，由璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。
造芯之路 - 世界芯片格局的形成
想象一下，你手中的手机、电脑，甚至家里的智能电器，它们跳动的心脏——芯片，其源头竟是一粒粒普通的沙子（硅）。就是这不起眼的沙子，牵动着大国的博弈...
光刻技术，走下 “神坛”
光刻机，向来被视为半导体制造的命脉。但近期多家芯片巨头释放的信息显示，未来光刻技术可能不再是唯一选择，即便是很难抢到的High-NA EUV，也多处于“闲置”状态。
原子光刻横空出世：精度超EUV15年
原子光刻技术正以颠覆性姿态闯入芯片制造领域。挪威Lace Lithography公司研发的原子束直写技术，分辨率突破0.3纳米，相当于在头发丝截面上雕刻整部《红楼梦》，精度超越当前最先进EUV光刻机15年。这项技术不仅绕开ASML光刻机的物理极限，更将芯片制造
群贤毕至，共襄盛会——IWAPS 2025诚邀投稿！
第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共
ASML的下一步
荷兰半导体设备领导者ASML Holding NV 主导着极紫外 (EUV) 光刻技术，而这项技术是生产尖端半导体芯片的关键。随着行业向更小的节点迈进，以推动人工智能、5G 和下一代计算的发展。
光掩膜的变化和挑战
日前，半导体工程杂志 (Semiconductor Engineering) 与 HJL Lithography 首席光刻师 Harry Levinson、 D2S首席执行官 Aki Fujimura、美光公司掩模技术高级总监 Ezequiel Russell
颠覆性技术，让芯片制造速度提高15倍
为现代芯片制造商打造强大、可靠且可制造的光源是当今业界最复杂的挑战之一。在所有光刻系统制造商中，只有 ASML 成功研发出用于打印最小芯片特征的 EUV 光源——但一家初创公司却提出了一个颠覆现状的全新理念。
芯片 asml 光刻 semiconductor 粒子加速器 2025-06-11 00:20 9
科创板IPO-恒坤新材经营状况分析
厦门恒坤新材料科技股份有限公司(以下简称“恒坤新材”或公司) 致力于集成电路领域关键材料的研发与产业化应用，是境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业之一，主要从事光刻材料和前驱体材料的研发、生产和销售。